三氟化氮在常温下是一种无色、无臭、性质稳定的气体,是一种强氧化剂,三氟化氮主要用于氟化剂、燃烧剂、推进剂中的氧化剂、高温金属的切割油等,在半导体行业应用广泛。然而早些年,相关产品被国外垄断,市场定价权掌握在国外厂商手中。 为破解垄断危机、抢抓市场机遇,我国于2009年成功开发出高纯三氟化氮。该产品被列入国家“重点新产品”及“火炬计划”,应用于国内大部分的半导体、液晶、太阳能行业,并出口美国、日本、法国、德国等国家。 目前我国已建成国内最大的三氟化氮等产品研发生产基地。其中三氟化氮国内市场覆盖率超过95%,国际市场覆盖率达30%;近两年,年均增速达到30%,力争到2020年,实现年产高纯三氟化氮气体12000吨。 我国电子气体目前还属于电子材料发展的短板,需着力发展。目前高纯三氟化氮气体产量在可以满足国内需求,随着半导体电子行业的发展,高纯三氟化氮气体产量是否还能满足行业发展还未可知。 因此,国内高纯三氟化氮产量虽然有所突破,但是否真的能降低市场价格还是个问题! |
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